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短讯,虽然顶级光刻机的研发,站稳28nm

日期:2020-01-16 22:03:59 来源:互联网 编辑:小优 阅读人数:380

攀登科技高峰,需掌握先进生产工具

光刻机作为当今社会最尖端的生产资料,能否熟练运用、掌握乃至逆向,关乎科技强国之本。

短讯,虽然顶级光刻机的研发,站稳28nm(图1)

具备自主知识产权的国产光刻机仍处于前期的研证阶段

虽然顶级光刻机的研发、生产及被全球为数不多的利益集团掌控、把持,且我国在采购国际顶级光刻机遭遇了不公待遇甚至禁售、恶意断供。但仍不能阻碍我国顶级科技企业、一流科研人员对现有设备、生产线的掌握及运用:

1月12日:中芯国际(南方厂)新建的14nm生产线运行投产。

中芯国际14nm生产线将具备月产35000片晶圆的产能规模。

华虹集团两年内投产两条12英寸晶圆生产线。

华虹65/55/28nm级别生产线均已量产并对接商业化运作。

华虹22nm生产线研发验证阶段已达后期收尾阶段。

华虹研发阶段的14nm生产线已全线贯通,SRAM良品率25%,有望在2020年获得突破。

弘芯半导体于2019年12月22日完成光刻机入厂仪式,成为国内第三家14nm晶圆厂.

短讯,虽然顶级光刻机的研发,站稳28nm(图2)

我国已有中芯、华虹、弘芯三家具备14nm/12nm生产线的晶圆厂

总结

完成光刻机的全产业链自主化生产制造,对当前的政治、经济局面而言不现实。因此,创造尽可能完善的条件,增设、掌握可供流通的14nm、12nm等光刻机生产线是符合当下各方战略制衡的缓兵之道。

短讯,虽然顶级光刻机的研发,站稳28nm(图3)

毕竟,连Intel都开始重启多年前的22nm生产线制作老型号的CPU产品,我们的晶圆厂利用现有设备踩实、站稳28nm、14nm、12nm产品的研发生产,仍可为之一战。

本文相关词条概念解析:

光刻机

光刻机/紫外曝光机(MaskAligner)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻)意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。

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